[祖巴伊达姆,从往昔来]
攻略
能力(等級別)
ZYA 祖巴伊达姆,从往昔来(PRTS) | |||||
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地位 | ボス | 等級 | 0 | 重量 | 10 |
分類 | その他 | 移動 | 地面 | 移動速度 | 0.6 |
HP | 80000 | 攻撃 | 700 | 攻撃間隔 | 4 |
防御 | 200 | 術耐性 | 20 | 攻撃範囲 | 2 |
耐性 | 沈黙、スタン、睡眠、凍結、浮遊 | 攻撃属性 | 術 | ||
能力 |
【晶体共振】結晶上で受ける物理/術ダメージが70%減少 第一形態撃破後、ウェーブを開放し、20秒間のリジェネで、体力の100%を回復する リジェネ終了時、自身の半径2.0マス内に結晶を配置し、その後第二形態に移行し10秒の無敵を得る 第二形態時、最大HP+25%、攻撃力+25%、防御力+25%
晶格聚焦 初期SP20、消費SP20 戦場の味方1体を選択し(選択可能なターゲットがない場合は、自分がいるブロックを選択)、 5秒間チャージした後、戦場の別の味方2体を選択し、選択した味方すべての位置に魔法陣を作成する 魔法陣は対象とその隣接4マスに攻撃力の50%の術ダメージを与え、 同じ範囲内の結晶のない各マスの中央に汚染された结晶を1つ召喚する
晶体过载 初期SP6、消費SP40 3秒間チャージすると、4方向にそれぞれ衝突半径0.2のビームを発射し、 衝突したすべての味方ユニットに攻撃力の100%の術ダメージを与え、 さらに自身の交差範囲内に結晶を含まないマスがある場合汚染された結晶を召喚する
全面防御 初期SP5、消費SP70 このスキルは、このバリアがない場合にのみ発動可能 約7秒間チャージした後、生成されたエネルギーは40秒間持続し、 現在の最大HP(50%+10% x戦場の結晶数(最大15まで))の物理/術バリアを生成
坏点聚焦 初期SP25、消費SP25 戦場の味方1体を選択し(選択可能なターゲットがない場合は、自分がいるマスを選択)、 10秒間チャージした後、戦場の別の味方2体を選択し、 選択した味方すべての位置に魔法陣を作成する 魔法陣は対象とその隣接4マスに攻撃力(90%+4% x戦場の結晶数(最大15まで))の術ダメージを与える |
ZYA 祖巴伊达姆,从往昔来(PRTS) | |||||
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地位 | ボス | 等級 | 1 | 重量 | 10 |
分類 | その他 | 移動 | 地面 | 移動速度 | 0.6 |
HP | 110000 | 攻撃 | 800 | 攻撃間隔 | 4 |
防御 | 200 | 術耐性 | 20 | 攻撃範囲 | 2 |
耐性 | 沈黙、スタン、睡眠、凍結、浮遊 | 攻撃属性 | 術 | ||
能力 |
【晶体共振】結晶上で受ける物理/術ダメージが70%減少 第一形態撃破後、ウェーブを開放し、20秒間のリジェネで、体力の100%を回復する リジェネ終了時、自身の半径2.0マス内に結晶を配置し、その後第二形態に移行し10秒の無敵を得る 第二形態時、最大HP+25%、攻撃力+25%、防御力+25%
晶格聚焦 初期SP20、消費SP20 戦場の味方1体を選択し(選択可能なターゲットがない場合は、自分がいるブロックを選択)、 5秒間チャージした後、戦場の別の味方2体を選択し、選択した味方すべての位置に魔法陣を作成する 魔法陣は対象とその隣接4マスに攻撃力の80%の術ダメージを与え、 同じ範囲内の結晶のない各マスの中央に汚染された结晶を1つ召喚する
晶体过载 初期SP6、消費SP40 3秒間チャージすると、4方向にそれぞれ衝突半径0.2のビームを発射し、 衝突したすべての味方ユニットに攻撃力の120%の術ダメージを与え、 さらに自身の交差範囲内に結晶を含まないマスがある場合汚染された結晶を召喚する
全面防御 初期SP5、消費SP70 このスキルは、このバリアがない場合にのみ発動可能 約7秒間チャージした後、生成されたエネルギーは40秒間持続し、 現在の最大HP(50%+10% x戦場の結晶数(最大15まで))の物理/術バリアを生成
坏点聚焦 初期SP25、消費SP25 戦場の味方1体を選択し(選択可能なターゲットがない場合は、自分がいるマスを選択)、 10秒間チャージした後、戦場の別の味方2体を選択し、 選択した味方すべての位置に魔法陣を作成する 魔法陣は対象とその隣接4マスに攻撃力(120%+6% x戦場の結晶数(最大15まで))の術ダメージを与える |
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