A. 分子線エピタキシー法は、半導体結晶の成長に用いられる手法の一つです。具体的には、電子線を照射することで、基板上に目的とする結晶を成長させます。この手法の利点は、高品質の結晶を高い再現性で得ることができることです。
A. 分子線エピタキシー法は、半導体結晶の成長に用いられる手法の一つです。具体的には、電子線を照射することで、基板上に目的とする結晶を成長させます。この手法の利点は、高品質の結晶を高い再現性で得ることができることです。
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